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年专业研发制造经验
中国智造行业品牌厂家
善准仪器

VP-RS系列

真空等离子处理仪

去胶刻蚀专用
等离子处理仪

   善准VP-RS系列真空等离子处理仪对标国际一线厂商，补充国内技术短板（专利：真空不锈钢腔体等离子清洗装置），真空腔体不锈钢材质，功率500W，频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行3分钟，腔体温度不高于45℃，不损伤样品，适用于晶圆去胶、芯片去胶、半导体刻蚀、硅材料刻蚀、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。

芯片去胶
质保两年
干法刻蚀
产品特性
13.56MHz物理清洁、刻蚀；化学改性、活化俱佳

真空等离子处理仪控制软件​著作权：2021SR1026389

BB设计理念，操作简易

中英文操作系统，触摸屏控制，界面智能化设计，避免误操作

数显真空检测，实时观察自动泄压动态

两路进气通道，进气量可调，流量实时监测


实时电压监测
功率连续可调

真空不锈钢腔体等离子清洗装置专利：201821506143X

等离子清洗强度实时显示
真空泵和主机联动噪音和油气污染小

腔体不锈钢材质

低温＜45℃

性能可靠  缔造真空等离子处理仪行业品牌厂家

01
Better Reliability，Better Operation
内置两路气路，气体流量可调，无需再搭配气体混合仪
专利软件、操作简易，智能化设计，避免误操作
采用数字显示压力，实时观察腔体压力变化情况
中英文操作系统，触摸屏控制，人机界面友好
电流、电压实时监测，确保仪器稳定安全运行
中文简易操作
触摸屏控制
清洗时长可在触摸屏设置，等离子处理时间精确到秒（s）
PLASMA处理结束后，自动泄压，泄压时长和大小可调；可通入氮气泄压
功率连续可调
02
对标国际一线厂商，补充国内技术短板
腔体温度小于32℃
VP-R3与国际一线品牌比对试验
PDMS键合
成功掌握频率13.56MHz用于PLASMA处理
性能媲美国际一线厂商，在控制自动化，人性化设计方面更完善
通入气体和泄压是独立通道互不干扰；自动泄压比手动泄压更方便
腔体低温，满功率运行3分钟腔体温度不高于45°C，不损伤样品
腔体材质为不锈钢，功率达到500W
13.56MHz等离子体处理对材料既有清洁、刻蚀、也有活化改性作用
03
细节把控，给用户更好体验
真空泵
石英玻璃腔体
真空腔体不锈钢材质，功率达到500W
配备的真空泵噪音和油气污染小，真空度高
真空泵与主机联动，可在触摸屏控制真空泵开启/关闭
2米不锈钢波纹管，比橡胶管更耐用，密封性更好
1.5米不锈钢波纹管
OF-25油污过滤器
标配清洗托盘，方便使用
安捷伦Agilent干泵（选配），避免油气污染
OF-20油污过滤器（选配），避免排气口油气对实验室环境的污染
04
经典清洗案例分析
石墨烯粉末清洗、改性，去除粉末杂质和油质，增加石墨烯表面亲水基团（-OH）提高亲水性
石墨烯粉末等离子清洗
PDMS材料等离子活化
金属油污等离子清洗
微流控芯片
碳毯CF
芯片去胶
煤粉等离子低温灰化、碳毯（CF）亲水性处理
PDMS等离子活化改性，提升亲水性和键合力
晶圆去胶，芯片去胶等干法刻蚀
二维材料的清洁、刻蚀
硅片亲水性处理，改性、活化表面
PLSAMA等离子处理样品疏水性的应用方案（请联系在线工程师）
05
石墨烯粉末VP-RS6亲水性处理XPS谱图分析
处理前石墨烯粉末溶于蒸馏水，会粘在瓶壁上
处理后石墨烯粉末上下摇匀后，不会粘在瓶壁
处理后
处理前石墨烯粉末很快下沉到瓶底，肉眼可见分层明显
处理后石墨烯粉末悬浮在水体，说明其亲水性增强
绿色曲线为处理前的XPS谱图，曲线一直都是平稳走向

红色曲线为处理后的XPS谱图，曲线在285eV左右有个峰值，

可知石墨烯粉末的性质已改变

处理前
处理后
处理前
处理后石墨烯导热率可提高40%，稳定性增强
石墨烯用于第三代半导体封装散热管理的研究
06
ITO导电玻璃等离子VP-RS6处理接触角测量仪分析
真空泵
石英玻璃腔体
CM-180接触角测定可知，未处理ITO接触角为80°C，处理后ITO接触角48°C，亲水性明显增强
处理前平均接触角、右接触角和左接触角三条曲线分离，处理后三条曲线重合，说明ITO表面更平整
卡扣
1.5米不锈钢波纹管
VP-RS系列满功率运行3分钟腔体温度低于45°C，非常适合ITO导电玻璃不耐热属性
通入氧等离子体时，可以提高ITO导电玻璃的功函数
技术规格


型号

VP-RS6

VP-RS8

VP-RS15

VP-RS20

腔体材质

不锈钢

腔体容量

6L

8L

15L

20L

内腔尺寸

250x160x160LxWxHmm

320x160x160LxWxHmm

320x250x200LxWxHmm

400x250x200LxWxHmm

射频功率

500W

射频频率

13.56MHz

RF放射

无

频率偏移量

小于0.2KHz

等离子体轰击

从上往下

等离子体激发

延时自动启动

腔体温度

满功率运行3分钟腔体温度＜45℃ 

清洗时间

0 - 1200S 可调

功率调节

连续可调

显示屏

4.3寸触摸屏

操作控制

提供中英文操作界面，触摸屏控制（设置清洗时间）

气体流量计

高精密2路浮子流量计（常用气体：氧气，氩气，氮气，氢气，四氟化碳，氨气，二氧化碳等）

提供进气气路

两路进气，气体流量 0-300ml/min可调

两路进气，气体流量0-600ml/min可调

进气管

两根6x4PU管，尾端配6转6快拧接头

泄压

等离子处理结束，自动泄压，泄压时长和速度可调。可提供氮气或其他气体泄压通道（选配）

真空泵极限真空度

5x10⁻²Pa

噪音

≤56dB

抽真空时间

启动到发出辉光≤50秒（时间可调）

启动到发出辉光≤60秒（时间可调）

真空检测

触摸屏上有一键真空检测功能，数字显示

冷却方式

风冷

腔体门

传感器识别开/关，带可视窗高强度铝合金

真空泵控制

主机与真空泵自动联动并可在触摸屏上控制真空泵开启/关闭

供电电源

AC220V/50Hz

箱体平衡

减震橡胶脚杯

外形尺寸(LxWxH)

560x450x360mm

660x550x400mm

订购信息

标准配置

主机、真空泵、2米波纹管、两路进气管、清洗托盘、六角工具、说明书、合格证、保修卡

选配件

1、油污过滤器 2、干性真空泵（防止油气挥发，高洁净实验室适用） 3、腔体大于20L可定制

用户成果摘录
成果2
成果4
成果3
成果1
成果2




期刊名称：Chemical Engineering

期刊名称：Journal 

影响因子：15.1

中科院分区：一区

善准品牌：SUNJUNE

用户单位：烟台大学

处理材料：PDMS、聚氨酯TPU、SEBS

期刊名称：ADVANCED FUNCTIONAL

期刊名称：MATERIALS（AFM） 

影响因子：19.2

中科院分区：一区

善准品牌：SUNJUNE PLASMA

用户单位：中国科学院北京纳米能源

用户单位：与系统研究所

处理材料：导电碳布（织物）

期刊名称：NATURE 

影响因子：64.8

中科院分区：一区

善准品牌：SUNJUNE PLASMA

用户单位：西湖大学

处理材料：氩等离子体处理二氧化硅(等离子处理过程不接触空气)

期刊名称：Science China 

期刊名称：Materials 

影响因子：8.1

中科院分区：一区

善准品牌：SUNJUNE PLASMA

用户单位：华南理工大学

处理材料：ITO(氧化铟锡) 

典型用户

中科院长春应化所
香港科技大学
中科院上海微系统所
山东省实验室
烟台大学
西湖大学
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