VP-T系列

旋转型真空等离子处理仪​​

  VP-T3和VP-TS7旋转型真空等离子处理仪的研制成功是善准人不断拼搏、勇于创新的最好体现，打破了国外厂商对此技术的垄断，目前已获得两项国家专利（一种低温旋转型石英等离子表面处理装置，专利号：2020202268472和一种旋转型不锈钢等离子表面处理装置，专利号：2020202275512），为中国智造在该领域进入世界级领先水平贡献自己的力量。

  VP-T3和VP-TS7旋转型真空等离子处理仪完美解决了微小颗粒特别是粉末样品PLASMA处理不完全，不均匀的痛点，真空腔体的旋转模块在等离子处理过程中滚动旋转，从而带动粉末样品在真空环境下翻滚，从而确保样品得到完全、均匀的等离子处理。粉末样品翻滚处理30分钟后回收率不低于99%，粉末样品基本实现全部回收，减少样品的浪费，确保粉末不被吹散及吸入真空泵，影响仪器和真空泵寿命。适用于石墨烯粉末、碳纳米管粉末、硼粉、铝粉、铁粉、橡胶粉、聚乙二醇粉、蜡基温拌添加剂粉等PLASMA等离子处理。

  VP-T3和VP-TS7频率都是13.56MHz，腔体分别采用石英（容积3L）和不锈钢（容积7L），旋转型真空等离子处理仪转速可调，可关闭（不旋转相当于普通真空等离子处理仪），一机两用，性价比很高。

频率​13.56MHz

旋转

等离子体

低温

<32度(T3)

一种低温旋转型石英等离子表面处理专利号：2020202268472

中英文操作系统，触摸屏控制，界面智能化设计，避免误操作

真空等离子处理仪控制软件著作权：2021SR1026389

清洗强度实时显示

频率13.56MHz，物理清洁、刻蚀，化学改性、活化俱佳

转速0-30r/min可调、可停止，一机两用

两路进气通道，进气量可调，流量实时监测

旋转型真空等离子处理仪的研制成功，进一步巩固了善准的行业领导地位

红色曲线为处理后的XPS谱图，曲线在285eV左右有个峰值，

可知石墨烯粉末的性质已改变

期刊名称：Chemical Engineering

期刊名称：Journal 

影响因子：15.1

中科院分区：一区

善准品牌：SUNJUNE

用户单位：烟台大学

处理材料：PDMS、聚氨酯TPU、SEBS

期刊名称：ADVANCED FUNCTIONAL

期刊名称：MATERIALS（AMF） 

影响因子：19.2

中科院分区：一区

善准品牌：SUNJUNE PLASMA

用户单位：中国科学院北京纳米能源

用户单位：与系统研究所

处理材料：导电碳布（织物）

期刊名称：Nano Research 

影响因子：8.532

中科院分区：一区

善准品牌：SUNJUNE PLASMA

用户单位：暨南大学

处理材料：PET(聚酯)

期刊名称：Science China 

期刊名称：Materials 

影响因子：8.1

中科院分区：一区

善准品牌：SUNJUNE PLASMA

用户单位：华南理工大学

处理材料：ITO(氧化铟锡) 

典型用户