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年专业研发制造经验
中国智​造行业领导品牌
善准仪器

VP-R系列

真空等离子处理仪

爆款
等离子处理仪

   VP-R系列真空等离子处理仪对标国际一线品牌，填补国内技术空白（专利：低温真空石英腔体等离子清洗装置），VP-R系列频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行30分钟，腔体温度不高于32℃，不损伤样品，适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。

低温<32度
13.56MHz
质保两年
产品特性
13.56MHz物理清洁、刻蚀；化学改性、活化俱佳

中英文操作系统，触摸屏控制，界面智能化设计，避免误操作

BB设计理念，操作简易

真空等离子处理仪控制软件著作权：2021SR1026389

数显真空检测，实时观察泄压动态
真空泵和主机联动噪音和油气污染小
功率高中低三挡可调
清洗强度实时显示

腔体低温＜32℃

实时电

压监测

低温真空石英腔体等离子清洗装置专利：2018305195058

两路进气通道，进气量可调，流量实时监测


卓越性能  缔造真空等离子处理仪行业领导品牌

01
Better Reliability，Better Operation
内置两路气路，气体流量可调，无需再搭配气体混合仪
专利软件、操作简易，智能化设计，避免误操作
采用数字显示压力，实时观察腔体压力变化情况
中英文操作系统，触摸屏控制，人机界面友好
电流、电压实时监测，确保仪器稳定安全运行
触摸屏控制
中文简易操作
清洗时长可在触摸屏设置，等离子处理时间精确到秒（s）
PLASMA处理结束后，自动泄压，泄压时长和大小可调；可通入氮气泄压
功率高、中、低三挡可调
02
对标国际一线品牌，填补国内技术空白
腔体温度小于32℃
VP-R3与国际一线品牌比对试验
国内首创，13.56MHz频率用于PLASMA处理
PDMS键合
性能比肩国际一线​产商，在控制自动化，人性化设计方面国际领先
通入气体和泄压是独立通道互不干扰；自动泄压比手动泄压更方便
腔体低温，满功率运行30分钟腔体温度不高于32°C，不损伤样品
腔体材质为石英，不与等离子体反应，保证样品不被污染
13.56MHz等离子体处理对材料既有清洁、刻蚀、也有活化改性作用
等离子体从腔体四周发出，对样品处理更均匀、更彻底
VP-R3接触角测量报告（如需详细报告请联系工程师）
VP-R3与国际一线品牌比对情况
ITO导电玻璃
PDMS材料
载玻片​
硅片活化清洁处理
石墨​烯等离子处理
高分子材料处理
03
细节把控，给用户更好体验
石英玻璃腔体
真空泵
石英材质真空腔体不与等离子体产生反应，不会污染样品
配备的真空泵噪音和油气污染小，真空度高
真空泵与主机联动，可在触摸屏控制真空泵开启/关闭
1.5米不锈钢波纹管，比橡胶管更耐用，密封性更好
1.5米不锈钢波纹管
OF-25油污过滤器
标配清洗托盘，方便使用
安捷伦Agilent干泵（选配），避免油气污染
OF-20油污过滤器（选配），避免排气口油气对实验室环境的污染
04
经典清洗案例分析
CF
PDMS材料等离子活化
石墨烯粉末等离子清洗
碳毯CF亲水性
硅片
PDMS与玻璃键合
石墨烯粉末清洗、改性，去除粉末杂质和油质，增加石墨烯表面亲水基团（-OH）提高亲水性
碳毯（CF）亲水性处理
PDMS等离子活化改性，提升亲水性和键合力
ITO导电玻璃亲水性处理并提高其功函数
二维材料的清洁、刻蚀
硅片亲水性处理，改性、活化表面
氧等离子处理PDMS在微流控中的应用
PLSAMA等离子处理样品疏水性的应用方案（请联系在线工程师）
05
石墨烯粉末VP-R3亲水性处理XPS谱图分析
处理前石墨烯粉末溶于蒸馏水，会粘在瓶壁上
处理后
处理后石墨烯粉末上下摇匀后，不会粘在瓶壁
处理前石墨烯粉末很快下沉到瓶底，肉眼可见分层明显
处理后石墨烯粉末悬浮在水体，说明其亲水性增强
绿色曲线为处理前的XPS谱图，曲线一直都是平稳走向

红色曲线为处理后的XPS谱图，曲线在285eV左右有个峰值，

可知石墨烯粉末的性质已改变

处理前
处理后
处理前
处理后石墨烯导热率可提高40%，稳定性增强
石墨烯用于第三代半导体封装散热管理的研究
06
ITO导电玻璃等离子VP-R3处理接触角测量仪分析
石英玻璃腔体
真空泵
CM-180接触角测定可知，未处理ITO接触角为80°C，处理后ITO接触角48°C，亲水性明显增强
处理前平均接触角、右接触角和左接触角三条曲线分离，处理后三条曲线重合，说明ITO表面更平整
1.5米不锈钢波纹管
卡扣
VP-R系列满功率运行30分钟腔体温度低于32°C，非常适合ITO导电玻璃不耐热属性
通入氧等离子体时，可以提高ITO导电玻璃的功函数
技术规格

型号

VP-R手动版

VP-R3

VP-R5

VP-R10

腔体材质

石英玻璃

腔体容量

2L

3L

5L

10L

内腔尺寸

Φ100x200Lmm

Φ150x200Lmm

Φ150x270Lmm

Φ200x320Lmm

射频功率

160W/200W（高功率版）

射频频率

13.56MHz

RF放射

无

频率偏移量

小于0.2KHz

等离子体轰击

从四周向中间

等离子体激发

延时自动启动

腔体温度

满功率运行30分钟腔体温度＜32℃ 

功率调节

高、中、低三挡可调

清洗时间

手动设置

0 - 1800S 可调

显示屏

无

4.3寸触摸屏

操作控制

手动控制

提供中英文操作界面，触摸屏控制（设置清洗时间）

气体流量计

无

高精密2路浮子流量计

提供进气气路

一路进气，进气可调

两路进气，流量0-300ml/min可调（常用气体：氩气，氧气，氮气，氢气，氨气等其他混合气体）

进气管

一根6x4PU管

两根6x4PU管，尾端配6转6快拧接头

泄压

手动开关泄压，泄压速度可调

等离子处理结束，自动泄压，泄压时长和速度可调。可提供氮气或其他气体泄压通道（选配）

真空泵极限真空度

5x10⁻²Pa

噪音

≤56dB

抽真空时间

启动到发出辉光≤35秒（时间可调）

≤55秒（时间可调）

真空检测

无

触摸屏上有一键真空检测功能，数字显示

冷却方式

风冷

腔体门

带可视窗铝合金

传感器识别开/关，带可视窗高强度铝合金

真空泵控制

主机与真空泵联动

主机与真空泵自动联动并可在触摸屏上控制真空泵开启/关闭

供电电源

AC220V/50Hz

箱体平衡

减震橡胶脚杯

外形尺寸(LxWxH)

420x420x320mm

560x450x360mm

650x500x445mm

订购信息

标准配置

主机、真空泵、1.5米波纹管、两路/一路（手动版）进气管、清洗托盘、六角工具、说明书、合格证、保修卡

选配件

1、油污过滤器 2、高硼硅圆形托盘 3、干性真空泵（防止油气挥发，高洁净实验室适用）

用户成果摘录
成果2
成果2
成果3
成果4
成果1




期刊名称：Chemical Engineering

期刊名称：Journal 

影响因子：15.1

中科院分区：一区

善准品牌：SUNJUNE

用户单位：烟台大学

处理材料：PDMS、聚氨酯TPU、SEBS

期刊名称：Science China 

期刊名称：Materials 

影响因子：8.1

中科院分区：一区

善准品牌：SUNJUNE PLASMA

用户单位：华南理工大学

处理材料：ITO(氧化铟锡) 

期刊名称：Nano Research 

影响因子：8.532

中科院分区：一区

善准品牌：SUNJUNE PLASMA

用户单位：暨南大学

处理材料：PET(聚酯)

期刊名称：ADVANCED FUNCTIONAL

期刊名称：MATERIALS（AMF） 

影响因子：19.2

中科院分区：一区

善准品牌：SUNJUNE PLASMA

用户单位：中国科学院北京纳米能源

用户单位：与系统研究所

处理材料：导电碳布（织物）

典型用户

天津大学
哈尔滨工业大学
华中科技大学
香港中文大学
清华大学
复旦大学
知识产权声明
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