VP-R系列
真空等离子处理仪
VP-R系列真空等离子处理仪对标国际一线品牌,填补国内技术空白(专利:低温真空石英腔体等离子清洗装置),VP-R系列频率13.56MHz,能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用,满功率运行30分钟,腔体温度不高于32℃,不损伤样品,适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。
中英文操作系统,触摸屏控制,界面智能化设计,避免误操作
真空等离子处理仪控制软件著作权:2021SR1026389
低温真空石英腔体等离子清洗装置专利:2018305195058
腔体低温<32℃
两路进气通道,进气量可调,流量实时监测
实时电
压监测
卓越性能 缔造真空等离子处理仪行业领导品牌
红色曲线为处理后的XPS谱图,曲线在285eV左右有个峰值,
可知石墨烯粉末的性质已改变
典型用户