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年专业研发制造经验
中国智​造行业领导品牌
善准仪器

VP-R系列

真空等离子处理仪

爆款
等离子处理仪

   VP-R系列真空等离子处理仪对标国际一线品牌，填补国内技术空白（专利：低温真空石英腔体等离子清洗装置），VP-R系列频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行30分钟，腔体温度不高于32℃，不损伤样品，适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。

13.56MHz
低温<32度
质保两年
产品特性

中英文操作系统，触摸屏控制，界面智能化设计，避免误操作

数显真空检测，实时观察泄压动态
BB设计理念，操作简易

真空等离子处理仪控制软件著作权：2021SR1026389

13.56MHz物理清洁、刻蚀；化学改性、活化俱佳

低温真空石英腔体等离子清洗装置专利：2018305195058

腔体低温＜32℃

两路进气通道，进气量可调，流量实时监测


实时电

压监测

功率高中低三挡可调
清洗强度实时显示
真空泵和主机联动噪音和油气污染小

卓越性能  缔造真空等离子处理仪行业领导品牌

01
Better Reliability，Better Operation
内置两路气路，气体流量可调，无需再搭配气体混合仪
专利软件、操作简易，智能化设计，避免误操作
采用数字显示压力，实时观察腔体压力变化情况
中英文操作系统，触摸屏控制，人机界面友好
电流、电压实时监测，确保仪器稳定安全运行
触摸屏控制
中文简易操作
清洗时长可在触摸屏设置，等离子处理时间精确到秒（s）
PLASMA处理结束后，自动泄压，泄压时长和大小可调；可通入氮气泄压
功率高、中、低三挡可调
02
对标国际一线品牌，填补国内技术空白
VP-R3与国际一线品牌比对试验
腔体温度小于32℃
国内首创，13.56MHz频率用于PLASMA处理
性能比肩国际一线​产商，在控制自动化，人性化设计方面国际领先
通入气体和泄压是独立通道互不干扰；自动泄压比手动泄压更方便
腔体低温，满功率运行30分钟腔体温度不高于32°C，不损伤样品
腔体材质为石英，不与等离子体反应，保证样品不被污染
13.56MHz等离子体处理对材料既有清洁、刻蚀、也有活化改性作用
等离子体从腔体四周发出，对样品处理更均匀、更彻底
VP-R3接触角测量报告（如需详细报告请联系工程师）
VP-R3与国际一线品牌比对情况
PDMS材料
ITO导电玻璃
载玻片​
硅片活化清洁处理
高分子材料处理
石墨​烯等离子处理
03
细节把控，给用户更好体验
真空泵
石英玻璃腔体
石英材质真空腔体不与等离子体产生反应，不会污染样品
配备的真空泵噪音和油气污染小，真空度高
真空泵与主机联动，可在触摸屏控制真空泵开启/关闭
1.5米不锈钢波纹管，比橡胶管更耐用，密封性更好
1.5米不锈钢波纹管
OF-25油污过滤器
标配清洗托盘，方便使用
安捷伦Agilent干泵（选配），避免油气污染
OF-20油污过滤器（选配），避免排气口油气对实验室环境的污染
04
经典清洗案例分析
石墨烯粉末清洗、改性，去除粉末杂质和油质，增加石墨烯表面亲水基团（-OH）提高亲水性
PDMS材料等离子活化
CF
石墨烯粉末等离子清洗
碳毯CF亲水性
硅片
PDMS与玻璃键合
碳毯（CF）亲水性处理
PDMS等离子活化改性，提升亲水性和键合力
ITO导电玻璃亲水性处理并提高其功函数
二维材料的清洁、刻蚀
硅片亲水性处理，改性、活化表面
氧等离子处理PDMS在微流控中的应用
PLSAMA等离子处理样品疏水性的应用方案（请联系在线工程师）
05
石墨烯粉末VP-R3亲水性处理XPS谱图分析
处理前石墨烯粉末溶于蒸馏水，会粘在瓶壁上
处理后
处理后石墨烯粉末上下摇匀后，不会粘在瓶壁
处理前石墨烯粉末很快下沉到瓶底，肉眼可见分层明显
处理后石墨烯粉末悬浮在水体，说明其亲水性增强
绿色曲线为处理前的XPS谱图，曲线一直都是平稳走向

红色曲线为处理后的XPS谱图，曲线在285eV左右有个峰值，

可知石墨烯粉末的性质已改变

处理前
处理后
处理前
处理后石墨烯导热率可提高40%，稳定性增强
石墨烯用于第三代半导体封装散热管理的研究
06
ITO导电玻璃等离子VP-R3处理接触角测量仪分析
真空泵
石英玻璃腔体
CM-180接触角测定可知，未处理ITO接触角为80°C，处理后ITO接触角48°C，亲水性明显增强
处理前平均接触角、右接触角和左接触角三条曲线分离，处理后三条曲线重合，说明ITO表面更平整
卡扣
1.5米不锈钢波纹管
VP-R系列满功率运行30分钟腔体温度低于32°C，非常适合ITO导电玻璃不耐热属性
通入氧等离子体时，可以提高ITO导电玻璃的功函数
技术规格

型号

VP-R手动版

VP-R3

VP-R5

VP-R10

腔体材质

石英玻璃

腔体容量

2L

3L

5L

10L

内腔尺寸

Φ100x200Lmm

Φ150x200Lmm

Φ150x270Lmm

Φ200x320Lmm

射频功率

160W/200W（高功率版）

射频频率

13.56MHz

RF放射

无

频率偏移量

小于0.2KHz

等离子体轰击

从四周向中间

等离子体激发

延时自动启动

腔体温度

满功率运行30分钟腔体温度＜32℃ 

功率调节

高、中、低三挡可调

清洗时间

手动设置

0 - 1800S 可调

显示屏

无

4.3寸触摸屏

操作控制

手动控制

提供中英文操作界面，触摸屏控制（设置清洗时间）

气体流量计

无

高精密2路浮子流量计

提供进气气路

一路进气，进气可调

两路进气，流量0-300ml/min可调（常用气体：氩气，氧气，氮气，氢气，氨气等其他混合气体）

进气管

一根6x4PU管

两根6x4PU管，尾端配6转6快拧接头

泄压

手动开关泄压，泄压速度可调

等离子处理结束，自动泄压，泄压时长和速度可调。可提供氮气或其他气体泄压通道（选配）

真空泵极限真空度

5x10⁻²Pa

噪音

≤56dB

抽真空时间

启动到发出辉光≤35秒（时间可调）

≤55秒（时间可调）

真空检测

无

触摸屏上有一键真空检测功能，数字显示

冷却方式

风冷

腔体门

带可视窗铝合金

传感器识别开/关，带可视窗高强度铝合金

真空泵控制

主机与真空泵联动

主机与真空泵自动联动并可在触摸屏上控制真空泵开启/关闭

供电电源

AC220V/50Hz

箱体平衡

减震橡胶脚杯

外形尺寸(LxWxH)

420x420x320mm

560x450x360mm

650x500x445mm

订购信息

标准配置

主机、真空泵、1.5米波纹管、两路/一路（手动版）进气管、清洗托盘、六角工具、说明书、合格证、保修卡

选配件

1、油污过滤器 2、高硼硅圆形托盘 3、干性真空泵（防止油气挥发，高洁净实验室适用）

用户成果摘录
成果4
成果1
成果3
成果2

典型用户

华中科技大学
清华大学
天津大学
复旦大学
哈尔滨工业大学
香港中文大学
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