VP-Q系列
真空等离子体处理仪
VP-Q系列真空等离子处理仪,等离子激发频率是2.45GHz,石英玻璃腔体,中英文操作系统,触摸屏控制,2.45GHz化学性最强的特点,适用于金属油污去除、半导体、塑料、PP、高分子等材料清洗,活化,蚀刻和改性。
低温真空石英腔体等离子清洗装置专利:2018305195058
真空等离子处理仪控制软件著作权:2021SR1026389
中英文操作系统,触摸屏控制,界面智能化设计,避免误操作
BB设计理念
操作简易
两路进气通道,进气量可调,流量实时监测
满功率运行3分钟腔体低温<40℃
频率2.45GHz,纳米级化学蚀刻
卓越性能,缔造真空等离子处理仪行业领导品牌
期刊名称:Chemical Engineering
期刊名称:Journal
影响因子:15.1
中科院分区:一区
善准品牌:SUNJUNE
用户单位:烟台大学
处理材料:PDMS、聚氨酯TPU、SEBS
期刊名称:ADVANCED FUNCTIONAL
期刊名称:MATERIALS(AMF)
影响因子:19.2
中科院分区:一区
善准品牌:SUNJUNE PLASMA
用户单位:中国科学院北京纳米能源
用户单位:与系统研究所
处理材料:导电碳布(织物)
期刊名称:Science China
期刊名称:Materials
影响因子:8.1
中科院分区:一区
善准品牌:SUNJUNE PLASMA
用户单位:华南理工大学
处理材料:ITO(氧化铟锡)
期刊名称:Nano Research
影响因子:8.532
中科院分区:一区
善准品牌:SUNJUNE PLASMA
用户单位:暨南大学
处理材料:PET(聚酯)
典型用户