PLASMA等离子体是物质的一种存在状态，也叫第四种状态（通常物质以固态、液态、气态三种状态存在），是利用高压电源在一定的压力条件下对气体施加足够的能量而产生。PLASMA等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子，处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基），离子化的原子、分子，未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。
   PLASMA等离子体性质主要与等离子体激发频率有关，国际常用的有三种激发频率：40KHz、13.56MHz和2.45GHz，采用这三种激发频率的真空等离子处理仪分别是 SUNJUNE善准科技的VP-S、VP-R/RS和VP-Q系列，不同激发频率的等离子体对材料处理的效果不同，因此，掌握PLASMA的工作原理对我们深入了解等离子体技术有很大帮助。

      硅片-PLASMA亲水性处理（真空等离子处理仪VP-RS8）            二氧化硅-等离子处理（真空等离子处理仪VP-R5）

   一、激活键能-交联作用
   PLASMA等离子体中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的键能在0~10eV，因此等离子体作用到样品表面后，可以使样品表面原有的化学键（C=C、C=O、C=N、Si-Si、Si-O等）产生断裂，PLASMA等离子体中的自由基与这些键形成网状的交联结构，大大地激活了表面活性。
   二、对材料表面轰击刻蚀-物理作用
   物理作用其反应机理主要是利用PLASMA等离子体里大量的离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子作纯物理的撞击，把材料表面的原子或附着在表面的原子打掉，不但清除了材料表面原有的污染物和杂质，还会产生刻蚀作用，将材料表面变“粗糙”，形成许多微细坑洼、沟壑，增大了材料表面的比表面积，提高材料表面的润湿性能。由于离子在压力较低时的平均自由基较长，得到能量的累积，因而在物理撞击时，离子的能量越高，越是有更多的能量作撞击，所以若要以物理作用为主时，就必须控制在较低的压力下进行反应，为了保证真空等离子处理仪腔体内较低的压力，需要持续通入空气或者其他惰性气体（氩气、氦气等），这样处理效果较好。物理作用下的等离子处理适用于玻璃、陶瓷、金属等材料，推荐使用等离子体激发频率40KHz 的VP-S系列或者13.56MHz的VP-R/RS系列真空等离子处理仪。
   三、形成新的官能团-化学作用
   化学作用其反应机理主要是利用PLASMA等离子体里的自由基与材料表面产生化学反应，频率和压力较高时，对自由基的产生较有利，所以若要以化学反应为主时，就必须配备较高的频率和较高的压力来进行反应。
   在化学反应里常用的气体有氢气（H2）、氧气（O2）、甲烷（CF4）、氨气（NH3）等，这些气体在真空等离子处理仪腔内反应成高活性的自由基，会在材料表面发生复杂的化学反应，引入新的官能团，如羟基（-OH）、氨基（-NH2）、羧基（-COOH）、醛基（-CHO）等，这些官能团都是活性基团，能明显提高材料表面活性，起到活化改性的作用。化学作用下的等离子处理适用于塑料、高分子、油污、聚合物等材料，推荐使用等离子体激发频率13.56MHz的VP-R/RS系列或者2.45GHz的VP-Q系列真空等离子处理仪。
   需要特别说明的是有一些材料处理既需要物理作用，也需要化学作用，例如聚二甲基硅氧烷（PDMS），氧化铟锡（ITO）、硅片、PET薄膜、二氧化硅（SiO2）、PTFE、二硫化钼等，这个时候应该选用等离子体激发频率是13.56MHz的VP-R/RS系列真空等离子处理仪。

  玻璃基片-物理作用下的等离子处理（真空等离子处理仪VP-S5）        ITO导电玻璃-等离子处理（真空等离子处理仪VP-R3）

   四、PLASMA处理的方向性-粉末或细小颗粒
   PLASMA真空等离子处理仪配备清洗托盘，把样品放在托盘上，样品朝上的一面等离子处理效果明显，样品贴着托盘的一面处理效果不明显，原因是等离子体需要空间让其做高速运动，而样品贴着托盘的那一面，空间变小，不利于等离子体对样品表面进行处理，所以样品哪一面需要等离子处理，就把那一面朝上，如果两面都需要等离子处理，常规的做法是待样品的一面处理结束后，把样品取出翻转再进行另一面的等离子处理，但如果样品是粉末或者微小颗粒，这个方法就有局限性。
   SUNJUNE善准科技研发的旋转型真空等离子处理仪VP-T系列很好地解决了这个问题。VP-T系列真空腔体可旋转，从而带动样品滚动，实现360°无死角等离子处理，极大地提升了等离子处理的均匀性和有效性，旋转型真空等离子处理仪VP-T系列适用于石墨烯粉末、催化剂粉末、金属氧化物粉末、硼粉、铝粉，针形样品、小颗粒样品等。

经等离子处理PDMS与玻璃实现不可逆的键合（真空等离子处理仪VP-R3）    石墨烯粉末亲水性处理（旋转型真空等离子处理仪VP-T3）

   广州善准科技有限公司获得“一种低温旋转型石英等离子表面处理装置 专利号：CN202020226847.2” 等十项国家专利，是国内首家掌握产生13.56MHz频率，保证满功率运行30分钟真空腔体温度不高于32摄氏度的真空等离子处理仪生产厂家，目前已上市的旋转型真空等离子处理仪引领行业发展，把中国真空等离子处理技术推向一个全新的高度。
   SUNJUNE善准科技真空等离子处理仪已成功在芯片制造、柔性材料、智能穿戴设备、微流控芯片、医疗器械、二维材料等领域获得广泛应用，截止2020年12月，中国排名前30的高校已有19所（复旦、浙大、中大、港中大等）选用善准的真空等离子处理仪，很多前沿的研究所及头部的高科技企业也是善准的用户，使用善准真空等离子处理仪做实验的多篇文章在SCI一区获得发表，能与用户相伴成长，是我们最大的动力和收获。
   五、SUNJUNE PLASMA部分用户论文截图

------------------------------------------------------ 精选新闻 -------------------------------------------------------

【会议总结】善准科技祝贺第二届有机场效应晶体管会议（OFET-2）圆满成功

摘要：善准科技助力第二届全国有机场效应晶体管会议（OFET-2），对现场老师关注的等离子处理和石英管真空密封等问题进行归纳回复。----------------------------------------2019-12-27